Film barriera

I. Fattori che influenzano le prestazioni dei film di imballaggio con barriera all'ossido di silicio placcati al vapore

La pellicola di base per vaporizzazione, il metodo di vaporizzazione, le condizioni di vaporizzazione, nonché la composizione del rivestimento di vaporizzazione e lo spessore dello strato di vaporizzazione possono avere un grande impatto sulle prestazioni dei film di imballaggio con barriera di ossido di silicio vaporizzati, che possono essere elencati principalmente come segue.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线

1. Selettività del substrato
Come accennato in precedenza, le proprietà barriera dei film di imballaggio con barriera di ossido di silicone depositati dal vapore dipendono dal rivestimento SiOx e pertanto il rivestimento non può essere danneggiato durante il processo di cottura a vapore.Le pellicole per imballaggio con barriera di ossido di silicone vaporizzato sono spesso laminate con altre pellicole per creare pellicole vaporizzate e la selezione del substrato vaporizzato dovrebbe tenere conto dei seguenti problemi.







(1) Tipo di film plastico

La solidità di adesione tra il film di ossido di silicio vaporizzato e il film plastico ha una maggiore relazione con il tipo di film plastico di base.PET, PVC e altri film polari hanno una migliore adesione con l'ossido di silicio, mentre i film non polari, con ossido di silicio, hanno un'adesione inferiore.



(2) Stato superficiale dei film plastici



Le proprietà barriera dei film di imballaggio con barriera di ossido di silicio placcati al vapore sono influenzati dallo spessore dello strato placcato al vapore, ma in misura maggiore dall'uniformità del rivestimento di ossido di silicio.Oltre alla composizione chimica e alla struttura dello strato vaporizzato stesso, anche la levigatezza della superficie del film di base utilizzato è un fattore importante nella formazione dei difetti, maggiore è la rugosità, più è facile causare difetti di vaporizzazione , ma la giusta quantità di rugosità consentirà la formazione di un ancoraggio fisico tra lo strato vaporizzato e la superficie del film di base, migliorando l'adesione dell'interstrato.



(3) Condizione di pretrattamento superficiale dei film plastici



Per ottenere film depositati da vapore di buona qualità, è necessario un moderato trattamento corona superficiale del film di base.Dopo il trattamento corona superficiale, si può formare uno strato di ossido sulla superficie del film plastico (attraverso una varietà di reazioni chimiche complesse come la reticolazione, l'ozonizzazione, la carbossilazione e la nitrossilazione, vengono introdotti atomi e gruppi atomici come l'ossigeno e l'azoto per la superficie del film plastico), aumentando la forza di adesione tra il film di base e il rivestimento depositato dal vapore.Nel caso di alcune apparecchiature di pretrattamento, se il tempo di pretrattamento è insufficiente e la modifica della superficie non è adeguata, ciò comporterà una diminuzione della solidità del legame tra il film di base e il rivestimento;un tempo di pretrattamento troppo lungo può causare un indebolimento dell'interfaccia del film di base a un livello più profondo, producendo uno strato di interfaccia debole del film di base stesso, che provocherà anche una diminuzione dell'adesione tra la superficie del materiale di base e il strato di placcatura al vapore.
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2. L'effetto delle condizioni del processo di deposizione di vapore sulle prestazioni dei film di imballaggio con barriera di ossido di silicio placcati al vapore

Indipendentemente dal fatto che venga utilizzata la deposizione di vapore fisica o chimica, le condizioni del processo di deposizione di vapore possono avere un impatto significativo sulle prestazioni dei film di imballaggio con barriera di ossido di silicone depositati da vapore, quindi le condizioni di processo che favoriscono il miglioramento delle proprietà di barriera dei film depositati da vapore dovrebbero essere utilizzato ove possibile.



(1) Quando si utilizza la deposizione fisica in fase di vapore, il

Il livello di vuoto, la temperatura del film di substrato, la potenza del cannone elettronico, la forma della materia prima da vaporizzare, la velocità di introduzione dell'ossigeno nella camera a vuoto, lo spessore del rivestimento vaporizzato (determinato dalla vaporizzazione tempo e potenza di evaporazione) influenzano tutte le prestazioni del prodotto finale.



Maggiore è il livello di vuoto durante l'evaporazione, migliore è l'evaporazione di SiO2 e maggiore è la qualità del rivestimento di evaporazione prodotto.



② Maggiore è la temperatura del film di base in plastica durante l'evaporazione, migliore è che il SiO evaporato si depositi sul film di base in plastica, formando un rivestimento denso e migliorando l'adesione tra lo strato di evaporazione e il film di base in plastica, aumentando così la la temperatura del film di base in plastica in modo appropriato contribuisce a migliorare la qualità del film di evaporazione.



③L'uso del bombardamento con cannone elettronico, l'evaporazione di SiO2, è opportuno utilizzare il blocco di SiO2, poiché il SiO2 in polvere nel bombardamento con cannone elettronico, è facile da produrre il fenomeno dello sputtering della polvere, che influisce sulla qualità del rivestimento di evaporazione e il SiO2 in polvere è favorevole all'evaporazione del riscaldamento della resistenza.



Maggiore è la quantità di ossigeno, cioè maggiore è il valore di x, più lo strato di vapore si sposta nella direzione di una maggiore trasparenza, ma la barriera tende a diminuire.Quando x è uguale a 2 si ottiene uno strato di evaporazione incolore e trasparente con scarse proprietà barriera.x è solitamente controllato tra 1,5 e 1,8 per ottenere un film di ossido di silicio evaporato con elevate proprietà barriera e buona trasparenza.www.susumino.com南京住野精工阻隔膜生产线



Quando lo spessore dello strato di vapore aumenta, la barriera del vapore aumenta, ma quando lo spessore dello strato di vapore supera i 50 nm, la barriera del vapore rimane sostanzialmente invariata se lo spessore dello strato di vapore viene ulteriormente aumentato, quindi non ci si può aspettare che migliori la barriera del film di rivestimento al vapore indefinitamente riducendo la velocità della linea di produzione (aumentando il tempo di rivestimento al vapore) e aumentando lo spessore dello strato di vapore.



(2) la deposizione di vapore chimico, l'onda elettromagnetica ad alta frequenza o la selezione della frequenza delle microonde, dovrebbero essere ionizzate con l'energia di ionizzazione nell'atmosfera e l'energia richiesta per la ionizzazione del materiale vaporizzato per corrispondere, l'onda elettromagnetica ad alta frequenza è generalmente selezionata 13.56 MHz, il microonde è generalmente selezionato 2,45 MHz, il vuoto in circa 10-2 Pa può ottenere un eccellente effetto di deposizione da vapore, mentre la deposizione fisica da vapore richiede un vuoto più elevato, vale a dire 10-2 ~ 10-3 Pa o superiore.




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