Fattori che influenzano le prestazioni delle pellicole da imballaggio con barriera all'ossido di silicio evaporato

I. Fattori che influenzano le prestazioni delle pellicole per imballaggio barriera all'ossido di silicio depositate tramite vapore

La pellicola di base per l'evaporazione, il metodo di evaporazione, le condizioni di evaporazione, nonché la composizione del rivestimento di evaporazione, lo spessore dello strato di evaporazione, ecc., possono avere un grande impatto sulle prestazioni della pellicola per imballaggio con barriera di ossido di silicio del tipo ad evaporazione.

1. Selettività del substrato

Come accennato in precedenza, le proprietà barriera delle pellicole da imballaggio barriera all'ossido di silicio evaporato dipendono dal rivestimento SiOx, pertanto il rivestimento non può essere distrutto durante il processo di evaporazione. La pellicola da imballaggio barriera all'ossido di silicio rivestita a vapore viene solitamente laminata con altre pellicole per creare una pellicola vaporizzante, la selezione del substrato vaporizzante dovrebbe prestare attenzione ai seguenti problemi.

(1) Tipo di film plastico

L'evaporazione della pellicola di ossido di silicio e la solidità adesiva della pellicola di plastica tra il tipo di pellicola di base in plastica ha una relazione maggiore tra PET, PVC e altre pellicole polari e l'adesione dell'ossido di silicio è migliore, mentre la pellicola non polare e l'adesione tra il l'ossido di silicio è peggio.

(2) Stato superficiale del film plastico

La proprietà barriera della pellicola da imballaggio barriera all'ossido di silicio evaporato non è influenzata solo dallo spessore dello strato evaporato, ma è anche determinata in misura maggiore dall'uniformità del rivestimento di ossido di silicio. Crepe, fori di spillo e altri difetti porteranno a una riduzione significativa della barriera del film di imballaggio con barriera all'ossido di silicio, alla formazione di difetti oltre all'evaporazione della composizione chimica e della struttura dello strato stesso, all'uso della levigatezza della superficie del film di base, È anche un fattore importante, maggiore è la ruvidità, maggiore è la probabilità che si verifichino difetti nell'evaporazione, ma la giusta quantità di ruvidità farà sì che lo strato di evaporazione e la superficie della pellicola di base tra la formazione di un ancoraggio fisico per migliorare l'adesione dell'intercalare.

(3) Condizioni di pretrattamento superficiale della pellicola plastica

Per ottenere film depositati tramite vapore di alta qualità, è essenziale un trattamento corona superficiale moderato del film di base. Il film plastico dopo il trattamento corona superficiale può formare uno strato di ossido sulla sua superficie (attraverso reticolazione, ozonizzazione, carbossilazione, nitrazione e altre reazioni chimiche complesse, come ossigeno, azoto e altri atomi e gruppi atomici introdotti sulla superficie della plastica pellicola), aumentando la forza di adesione della pellicola di base e del rivestimento di placcatura a vapore tra il rivestimento. Nel caso di alcune apparecchiature di pretrattamento, se il tempo di pretrattamento è insufficiente, la modifica della superficie non è sufficiente, porterà ad una diminuzione della solidità della pellicola di base e del rivestimento tra la combinazione; il tempo di pretrattamento è troppo lungo, può causare un livello più profondo di indebolimento interfacciale del film di base, produrre uno strato interfacciale debole proprio del film di base, ma anche causato dalla diminuzione della forza di adesione della superficie del substrato e dello strato di placcatura del vapore.

2. L'effetto delle condizioni del processo di deposizione di vapore sulle prestazioni della pellicola per imballaggio con barriera di ossido di silicio depositata tramite vapore

Sia che si utilizzi la deposizione di vapore fisica o chimica, le condizioni del processo di deposizione di vapore possono avere un impatto significativo sulle prestazioni della pellicola per imballaggio con barriera di ossido di silicio depositata a vapore, quindi dovrebbe essere utilizzata il più possibile per migliorare le proprietà barriera del processo di pellicola depositata a vapore condizioni.

(1) Quando si utilizza la deposizione fisica da vapore.

Il livello di vuoto, la temperatura della pellicola del substrato, la potenza del cannone elettronico, la forma dell'evaporazione della materia prima SiO2, la velocità di introduzione dell'ossigeno nella camera del vuoto, lo spessore del rivestimento di evaporazione (determinato dal tempo di evaporazione e potenza di evaporazione) influenzeranno le prestazioni del prodotto finale.

① Maggiore è il grado di vuoto durante l'evaporazione, più favorevole è l'evaporazione di SiO2 e migliore è la qualità del rivestimento di evaporazione.

② La temperatura dell'evaporazione del film di base in plastica è elevata, favorisce l'evaporazione di SiO, nella deposizione del film di base in plastica, la formazione di rivestimenti densi e favorisce il miglioramento dell'adesione tra lo strato di evaporazione e il film di base in plastica, quindi appropriato per aumentare la temperatura del film di base in plastica, è favorevole a migliorare la qualità dell'evaporazione dei film sottili.

③ utilizzando il bombardamento con cannone elettronico, evaporazione di SiO2, è opportuno utilizzare un blocco di SiO2, perché il SiO2 in polvere bombardato dal cannone elettronico, è facile produrre il fenomeno dello sputtering della polvere, che influisce sulla qualità dell'evaporazione della pellicola, e SiO2 in polvere favorisce il riscaldamento e l'evaporazione della resistenza.

④ La velocità di introduzione dell'ossigeno influenza la composizione dello strato di evaporazione, cioè il rapporto tra il numero di atomi di Si e il numero di atomi 0 in SiOx. Maggiore è la quantità di ossigeno, cioè maggiore è il valore di x, lo strato di evaporazione si sposta nella direzione di una maggiore trasparenza, ma la barriera tende a diminuire. Quando x è uguale a 2, le prestazioni della barriera sono scarse, strato di rivestimento al vapore trasparente incolore, solitamente controllo x compreso tra 1,5 ~ 1,8 per ottenere sia un'elevata barriera che una buona trasparenza della pellicola di ossido di silicio di rivestimento al vapore.

Lo spessore dello strato di deposizione di vapore aumenta, la proprietà barriera della pellicola di deposizione di vapore aumenta, ma quando lo spessore dello strato di deposizione di vapore supera i 50 nm, lo spessore dello strato di deposizione di vapore viene ulteriormente aumentata, la proprietà barriera della pellicola di deposizione di vapore rimane sostanzialmente invariato, quindi non possiamo aspettarci di fare affidamento sulla riduzione della velocità della linea di produzione (aumento del tempo di deposizione del vapore), sull'aumento dello spessore del metodo dello strato di vapore, per migliorare illimitatamente le proprietà barriera del film di deposizione del vapore.

(2) la placcatura con vapore chimico, l'onda elettromagnetica ad alta frequenza o la selezione della frequenza delle microonde, devono essere ionizzate con la ionizzazione dell'atmosfera nell'energia di ionizzazione e l'energia richiesta per la ionizzazione dei materiali placcati con vapore per adattarsi all'onda elettromagnetica ad alta frequenza è generalmente 13,56 MHz, il microonde è generalmente 2,45 MHz, il vuoto intorno a 10-2Pa può essere ottenuto con un eccellente effetto di placcatura a vapore e la placcatura fisica a vapore richiede un vuoto più elevato, ovvero 10-2 ~ 10-3Pa, il vuoto è più alto. Vuoto 10-2~10-3Pa o superiore.

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